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टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 100*45 मिमी 100*40 मिमी पीवीडी कोटिंग के लिए Ti Ti-Al Zr Cr
| सामग्री: | टाइटेनियम |
|---|---|
| ग्रेड: | ग्रेड 1 |
| आयुध डिपो: | 90-600 मिमी |
टाइटनियम डिस्क लक्ष्य 98x10 मिमी, 98x12 मिमी, 98x20 मिमी झूठे दांत के लिए
| आकार: | अनुकूलित |
|---|---|
| लक्ष्य प्रकार: | घूर्णन योग्य |
| घनत्व: | अनुकूलित |
पीवीडी धातु स्पटरिंग लक्ष्य 100x40 मिमी सजावट और उपकरण कोटिंग
| अनाज का आकार: | <100um |
|---|---|
| प्रकार: | स्पटरिंग लक्ष्य |
| तकनीकी: | रोलिंग, जाली, सीएनसी |
OEM पीवीडी 5एन+ 99.9995% टाइटेनियम लक्ष्य उच्च शुद्धता अर्धचालक लक्ष्य पतली फिल्में
| उत्पाद का नाम: | सेमीकंडक्टर टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री |
|---|---|
| शुद्धता: | 5एन+(99.9993%-99.9995%) |
| अनाज का आकार: | <100um |
99.9%-99.999% शुद्धता पतली फिल्म अवशोषण टाइटेनियम लक्ष्य 3N-5N टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
| उत्पाद का नाम: | पतली फिल्म जमाव टाइटेनियम लक्ष्य |
|---|---|
| सामग्री: | शुद्ध टाइटेनियम |
| शुद्धता: | 3एन-5एन |
अनुकूलित एकल/बहु शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्य पॉलिश सतह के साथ
| Substrate Compatibility: | Customized |
|---|---|
| Purity: | 99.99% |
| Density: | Customized |
99.99% शुद्धता स्पटरिंग धातु लक्ष्य पॉलिश सतह क्रिस्टल संरचना के साथ
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
स्पुटरिंग कोटिंग्स के लिए अनुकूलित धातु लक्ष्य एकल या एकाधिक कॉन्फ़िगरेशन Ra 0.8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
अनुकूलित सब्सट्रेट पॉलिश और एनोडाइज्ड के साथ इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |
गोल पॉलिश कन्वेयर धातु डिटेक्टर मशीन शुद्धता 99.99%
| Shape: | Round |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Material: | Metal |