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HHO जेनरेटर के लिए mmo कोटेड टाइटेनियम एनोड प्लेट TA1 RuO2-IrO2
सब्सट्रेट: | Gr1 /Gr2 बेसमेंट के रूप में |
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परत: | RuO2 / RuO2-IrO2 |
आवेदन पत्र: | जल उपचार सोडियम हाइपोक्लोराइट जनरेटर |
टाइटेनियम इलेक्ट्रोड प्लेट एमएमओ इर्डियम ऑक्साइड लेपित 0.5-25 माइक्रोन एनोड
सब्सट्रेट: | Gr1 /Gr2 बेसमेंट के रूप में |
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परत: | RuO2 / RuO2-IrO2 |
टाइप: | इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री उपकरण |
क्लोर क्षार क्लोराइड उद्योग एनोड के लिए टाइटेनियम जीआर 2 इलेक्ट्रोड प्लेट 4um से 6um तक
सब्सट्रेट: | बेसमेंट के रूप में जीआर 1 / जीआर 2 |
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परत: | आरयू-इर ऑक्साइड |
आकार: | मेष / प्लेट असेंबली या ढीला |
टाइटेनियम एनोड प्लेट Gr1 MMO कोटिंग नमक क्लोरीनीकरण जल उपचार
सब्सट्रेट: | शुद्ध टाइटेनियम Gr1 Gr2 |
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परत: | रु-इर इर-ता प्लेटिनम |
आवेदन पत्र: | MMO कैथोडिक संरक्षण विद्युत आवरण क्षेत्र |
Ruo2 Iro2 लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड प्लेट 4 से 6um संक्षारण प्रतिरोध एनोड
सब्सट्रेट: | बेसमेंट के रूप में जीआर 1 / जीआर 2 |
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परत: | आरयू-इर कोटिंग |
आवेदन पत्र: | सोडियम हाइपोक्लोराइट जेनरेटर या स्विमिंग पूल के लिए |
RuO2 IrO2 लेपित टाइटेनियम एनोड सोडियम हाइपोक्लोराइट जनरेटर में उपयोग किया जाता है
सब्सट्रेट: | Gr1 /Gr2 बेसमेंट के रूप में |
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कलई करना: | RuO2 / RuO2-IrO2 |
आवेदन: | जल उपचार सोडियम हाइपोक्लोराइट जनरेटर |
ठीक रेत और कंक्रीट में कैथोडिक सुरक्षा (आईसीसीपी) के लिए टाइटेनियम रिबन एनोड 6.35x0.635 मिमी
उत्पत्ति के प्लेस: | शांक्सी, चीन |
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सब्सट्रेट: | जीआर 1 टाइटेनियम |
तिवारी सामग्री (%): | 99.6% |
नमक क्लोरीनेटर एमएमओ रूथेनियम कोटिंग 10um के लिए टाइटेनियम इलेक्ट्रोड
सब्सट्रेट: | Gr1 /Gr2 बेसमेंट के रूप में |
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परत की मोटाई: | 8-10um या आपकी आवश्यकता के अनुसार |
परत: | दयाता |
Gr1 Gr2 टाइटेनियम इलेक्ट्रोड RuO2 IrO2 लेपित 4um-6um एनोड
सब्सट्रेट: | बेसमेंट के रूप में जीआर 1 / जीआर 2 |
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परत: | Ru-Ir लेपित |
परत की मोटाई: | 4-6um या आपके अनुरोध के रूप में |
इलेक्ट्रोफोरेटिक कोटिंग के लिए थोक एनोडाइज्ड टाइटेनियम जी23 बॉडी ज्वैलरी पार्ट्स
लाभ: | प्रभावी। लंबे कामकाजी जीवन। |
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काम का माहौल: | कोक, मिट्टी और ताजा पानी, समुद्री जल |
पवित्रता: | 99.9% |