99.99% शुद्धता HIP गोल इलेक्ट्रोस्टैटिक पाउडर कोटिंग गन पॉलिश सतह खत्म के साथ

उत्पाद का वर्णन:

धातु स्पटरिंग लक्ष्य की क्रिस्टल संरचना को प्रत्येक अनुप्रयोग की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित किया जा सकता है। लक्ष्य को चिकनी सतह सुनिश्चित करने के लिए पॉलिश किया जाता है,जो इष्टतम परिणाम प्राप्त करने के लिए आवश्यक हैसतह को बढ़ी हुई स्थायित्व और पहनने के प्रतिरोध के लिए एनोडाइज भी किया जा सकता है।

धातु स्पटरिंग लक्ष्य की शुद्धता 99.99% है, जो यह सुनिश्चित करता है कि यह समय के साथ लगातार प्रदर्शन प्रदान करता है।उच्च स्तर की शुद्धता एक कठोर विनिर्माण प्रक्रिया के माध्यम से प्राप्त की जाती है जिसमें उन्नत प्रौद्योगिकियों और तकनीकों का उपयोग शामिल है.

धातु स्पटरिंग लक्ष्य इंडियम के साथ बंधा है, जो सब्सट्रेट के लिए एक मजबूत और विश्वसनीय कनेक्शन प्रदान करता है।यह बंधन प्रक्रिया यह सुनिश्चित करने के लिए महत्वपूर्ण है कि लक्ष्य स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान मजबूती से जगह में सुरक्षित है.

मेटल स्पटरिंग टारगेट विभिन्न प्रकार के स्पटरिंग सिस्टम के साथ संगत है, जिनमें एक इलेक्ट्रोस्टैटिक पाउडर कोटिंग बंदूक, कार्बन स्टील आई बीम, या गर्म पिघलने वाले गोंद बंदूक का उपयोग करने वाले शामिल हैं।यह संगतता इसे एक बहुमुखी उत्पाद बनाती है जिसका उपयोग औद्योगिक और वैज्ञानिक अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला में किया जा सकता है।.

कुल मिलाकर, धातु स्पटरिंग लक्ष्य एक उच्च गुणवत्ता वाला उत्पाद है जो विश्वसनीय और सुसंगत प्रदर्शन प्रदान करता है। इसकी अनुकूलन क्रिस्टल संरचना, पॉलिश सतह,और उच्च शुद्धता इसे अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला के लिए एक आदर्श विकल्प बनाते हैं, जबकि इंडियम के साथ इसके मजबूत बंधन से यह सुनिश्चित होता है कि यह स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान मजबूती से जगह पर रहे।

विशेषताएं:

• उत्पाद का नामः धातु स्पटरिंग लक्ष्य
• सतह रफः Ra < 0.8 Um
• लक्ष्य विन्यास: एकल या कई
• सतहः पॉलिश, एनोडाइजिंग
• सतह खत्मः पॉलिश
• शुद्धताः 99.99%

यह धातु स्पटरिंग लक्ष्य उत्पाद उन उद्योगों के लिए आदर्श है जिन्हें अपनी प्रक्रियाओं के लिए उच्च शुद्धता वाले धातुओं की आवश्यकता होती है।लक्ष्य विन्यास या तो एकल या कई लक्ष्य हो सकते हैं, अपनी आवश्यकताओं के आधार पर. सतह पॉलिश या anodized जा सकता है, अपनी पसंद के आधार पर. सतह खत्म हमेशा सुनिश्चित करने के लिए कि स्पटरिंग प्रक्रिया सुसंगत है पॉलिश है.धातु की शुद्धता 99 है.99%, यह सुनिश्चित करता है कि अपने प्रक्रियाओं अशुद्धियों के साथ दूषित नहीं कर रहे हैं। यह उत्पाद 3 डी प्रिंटिंग धातु पाउडर, कार्बन स्टील I बीम,और गर्म पिघल गोंद बंदूक विनिर्माण प्रक्रियाओं.

तकनीकी मापदंडः

अनुप्रयोग:

मेटल स्पटरिंग टारगेट का एक प्राथमिक अनुप्रयोग अर्धचालकों के निर्माण में है। यह आमतौर पर सिलिकॉन वेफर्स पर पतली फिल्म कोटिंग के लिए जमा सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है।धातु स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग सौर कोशिकाओं के उत्पादन में भी किया जाता हैइसके अतिरिक्त, यह सामग्री चुंबकीय भंडारण मीडिया जैसे हार्ड डिस्क ड्राइव के उत्पादन में उपयोग के लिए आदर्श है।

मेटल स्पटरिंग टारगेट का एक अन्य अनुप्रयोग सजावटी कोटिंग्स के उत्पादन में है।सामग्री का उपयोग विभिन्न सतहों पर चिकनी और समान कोटिंग बनाने के लिए इलेक्ट्रोस्टैटिक पाउडर कोटिंग बंदूक में किया जाता है, धातु, प्लास्टिक और कांच सहित. धातु स्पटरिंग लक्ष्य भी उच्च प्रदर्शन मिश्र धातु स्टील धातु के निर्माण में प्रयोग किया जाता है,जो आमतौर पर एयरोस्पेस और ऑटोमोबाइल उद्योगों में प्रयोग किया जाता है.

इसके अतिरिक्त, धातु स्पटरिंग लक्ष्य का व्यापक रूप से चिकित्सा उपकरणों और उपकरणों के उत्पादन में उपयोग किया जाता है। सामग्री का उपयोग पेसमेकर, श्रवण यंत्र,और अन्य चिकित्सा प्रत्यारोपणइसका प्रयोग चिकित्सा उपकरणों और औजारों के उत्पादन में भी किया जाता है।

धातु स्पटरिंग लक्ष्य विभिन्न विनिर्माण प्रक्रियाओं के साथ संगत है, जिसमें गर्म आइसोस्टैटिक प्रेसिंग (एचआईपी) और विभिन्न मशीनिंग प्रक्रियाएं शामिल हैं।यह उच्च परिशुद्धता और सटीकता की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों में उपयोग के लिए भी आदर्श हैसामग्री को विशिष्ट अनुप्रयोग आवश्यकताओं के आधार पर एकल या कई लक्ष्य के रूप में कॉन्फ़िगर किया जा सकता है।

धातु स्पटरिंग लक्ष्य कन्वेयर धातु डिटेक्टर मशीन में उपयोग के लिए भी उपयुक्त है। यह संक्षारण और पहनने के लिए अत्यधिक प्रतिरोधी है, जिससे यह कठोर वातावरण में उपयोग के लिए एक आदर्श विकल्प है।यह सामग्री साफ करने और बनाए रखने में भी आसान है, इसे विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए एक लागत प्रभावी समाधान बनाता है।

अनुकूलन:

हमारे उत्पाद अनुकूलन सेवाओं के साथ अपने धातु स्पटरिंग लक्ष्य को अनुकूलित करें. निम्नलिखित विशेषताओं में से चुनें:

• सतह रफः Ra < 0.8 Um
• सतहः पॉलिश, एनोडाइजिंग
• क्रिस्टल संरचनाः अनुकूलित
• आकार: गोल
• बनाने की प्रक्रियाः गर्म आइसोस्टैटिक प्रेसिंग ((HIP)

हमारे धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च गुणवत्ता वाले कार्बन स्टील I बीम से बना है और हमारे फ्रीफॉल मेटल डिटेक्टर तकनीक के साथ संगत है।हम आपकी अनुकूलन आवश्यकताओं के लिए 3 डी प्रिंटिंग धातु पाउडर प्रदान करते हैं.

सहायता एवं सेवाएं:

हमारे धातु स्पटरिंग लक्ष्य उत्पादों को अर्धचालक, प्रदर्शन और सौर उद्योगों में पतली फिल्म जमाव की मांग की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।हम शुद्ध धातुओं सहित सामग्री की एक विस्तृत श्रृंखला प्रदान करते हैं, मिश्र धातु, और विभिन्न आकारों और आकारों में सिरेमिक आपके विशिष्ट प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुरूप।

हमारी तकनीकी सहायता टीम सामग्री चयन, लक्ष्य बंधन, और प्रक्रिया अनुकूलन सहित हमारे स्पटरिंग लक्ष्यों के बारे में आपके किसी भी प्रश्न के साथ आपकी सहायता करने के लिए उपलब्ध है।हम आपकी विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए कस्टम लक्ष्य डिजाइन और निर्माण सेवाएं भी प्रदान करते हैं.

हमारे स्पटरिंग लक्ष्य उत्पादों के अलावा, हम भी अपनी पतली फिल्म जमा प्रक्रियाओं का समर्थन करने के लिए सेवाओं की एक किस्म प्रदान करते हैं। इनमें शामिल हैंः

• लक्षित बंधन सेवाएं
• लक्ष्य पुनर्चक्रण और पुनःप्राप्ति
• पतली फिल्म की विशेषता और विश्लेषण
• उपकरण का रखरखाव और मरम्मत

हमारा लक्ष्य आपको उच्च गुणवत्ता वाले उत्पाद और सेवाएं प्रदान करना है ताकि आप अपने पतली फिल्म जमाव लक्ष्यों को प्राप्त करने में मदद कर सकें।हमारे उत्पादों और सेवाओं के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें.