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ओरल डेंचर के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट डिस्क 98x14mm 97x16mm ASTM F67

उत्पत्ति के प्लेस चीन
ब्रांड नाम CSTI
प्रमाणन ISO9001
मॉडल संख्या 20221012
न्यूनतम आदेश मात्रा 1 टुकड़ा
मूल्य $19.80 - $21.5/pc
पैकेजिंग विवरण <i>Vacuum sealed package inside;</i> <b>अंदर वैक्यूम सील पैकेज;</b> <i>export wooden case or carton
प्रसव के समय 7 ~ 20 कार्य दिवस
भुगतान शर्तें टी/टी, एल/सी
आपूर्ति की क्षमता 10000 Piece/Pieces प्रति महीना

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उत्पाद विवरण
सामग्री टाइटेनियम Gr1 Gr2 Gr3 Gr4 मानक एएसटीएम एफ 67
आकार डिस्क/गोल आकार Φ98*14, Φ97*16
शुद्धता 99.9% ~ 99.999% आवेदन ओरल डेन्चर, मेडिकल के लिए
प्रमुखता देना

F67 मेटल स्पटरिंग टारगेट

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ओरल डेंचर मेटल स्पटरिंग टारगेट

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डिस्क टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट:

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उत्पाद विवरण

टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट्स का उपयोग विभिन्न चिकित्सा अनुप्रयोगों में किया जाता है, जिसमें चिकित्सा प्रत्यारोपण, सर्जिकल उपकरण और नैदानिक उपकरणों का उत्पादन शामिल है।स्पटरिंग एक प्रक्रिया है जिसमें सामग्री की एक पतली फिल्म को एक सब्सट्रेट पर जमा करना शामिल है, और यह आमतौर पर चिकित्सा उपकरणों के निर्माण में उपयोग किया जाता है क्योंकि यह एक अत्यधिक समान और चिपचिपा कोटिंग का उत्पादन करता है।

चिकित्सा में टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों का एक अनुप्रयोग ऑर्थोपेडिक प्रत्यारोपण का उत्पादन है।टाइटेनियम एक जैव संगत सामग्री है जिसका व्यापक रूप से हड्डी प्रत्यारोपण के लिए उपयोग किया जाता है क्योंकि यह मजबूत और हल्का दोनों हैस्पटरिंग प्रक्रिया का उपयोग टाइटैनियम की एक पतली परत को प्रत्यारोपण की सतह पर जमा करने के लिए किया जा सकता है,जो इसकी जैव संगतता में सुधार कर सकता है और इसे आसपास के हड्डी के ऊतक के साथ अधिक प्रभावी ढंग से एकीकृत करने में मदद कर सकता है.

टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट का उपयोग सर्जिकल उपकरणों जैसे कि स्केलपल्स और क्लिप्स के उत्पादन में भी किया जाता है।इन उपकरणों की सतह पर टाइटेनियम नाइट्राइड की एक पतली परत जमा करने के लिए स्पटरिंग प्रक्रिया का उपयोग किया जा सकता है, जो उनकी कठोरता, स्थायित्व और संक्षारण प्रतिरोध में सुधार कर सकता है।

इसके अतिरिक्त, टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग डायग्नोस्टिक उपकरणों जैसे कि एक्स-रे ट्यूब और सीटी स्कैनर के उत्पादन में किया जाता है।इन उपकरणों की सतह पर टाइटेनियम की एक पतली परत जमा करने के लिए स्पटरिंग प्रक्रिया का उपयोग किया जा सकता है, जो उनकी विद्युत चालकता में सुधार कर सकते हैं और उनके थर्मल प्रतिरोध को कम करने में मदद कर सकते हैं।

कुल मिलाकर, टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य कई चिकित्सा अनुप्रयोगों का एक महत्वपूर्ण घटक हैं, और नई प्रौद्योगिकियों और अनुप्रयोगों के विकास के साथ उनके उपयोग में वृद्धि जारी रहने की उम्मीद है।

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य विनिर्देश

सामग्रीः शुद्ध टाइटेनियम Gr1 Gr2 Gr3 Gr4

मानकः एएसटीएम एफ67

आकारः Φ98*14, Φ97*16

आवेदनः मौखिक दांतों के लिए,चिकित्सा

पद

शुद्धता

घनत्व

कोटिंग रंग

आकार

मानक आकार

 

टाइटेनियम एल्यूमीनियम (TiAl) मिश्र धातु लक्ष्य

2N8-4N

3.6-4.2

गुलाब सोना/कॉफी/शैंपेन सोना

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

सौर सौर ऊर्जा उद्योग, सजावटी कोटिंग उद्योग, फ्लैट
पैनल डिस्प्ले उद्योग, वास्तुशिल्प कांच/ऑटोमोटिव कांच उद्योग, लचीला घुमावदार कोटिंग उद्योग, ऑप्टिकल डेटा
भंडारण उद्योग, ऑप्टिकल संचार/ऑप्टिकल उद्योग और चुंबकीय डेटा भंडारण तथा अर्धचालक उद्योग

शुद्ध क्रोम (Cr) लक्ष्य

2N7-4N

7.19

बंदूक ग्रे/काला

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध टाइटेनियम (Ti) लक्ष्य

2N8-4N

4.51

सोना/गुलाबी सोना/नीला/इंद्रधनुष/लाल काला/बंदूक ग्रे

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध ज़िरकोनियम ((Zr) लक्ष्य

2N5-4N

6.5

हल्का सोना

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध एल्यूमीनियम (Al) लक्ष्य

4एन-5एन

2.7

चांदी

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध निकेल (नी) लक्ष्य

3एन-4एन

8.9

निकेल

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध नाइओबियम (एनबी) लक्ष्य

3एन

8.57

सफेद

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध टैंटलम (Ta) लक्ष्य

3एन5

16.4

काला/शुद्ध

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

शुद्ध मोलिब्डेनम (मो) लक्ष्य

3एन5

10.2

काली

सिलेंडर/प्लानर

(D) 70/100* ((H) 100-2000 मिमी

टिप्पणियाँः आकार विशिष्ट आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है

उत्पाद लाभ

01 उच्च रासायनिक शुद्धता

02 कम गैस सामग्री

03 100% घनत्व के करीब

04 समान अनाज

05 घनी और समरूप आंतरिक संरचना

आवेदन का मामला

चिकित्सा अनुप्रयोगों में टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों के उपयोग का एक उल्लेखनीय उदाहरण दंत प्रत्यारोपण के उत्पादन में है।दांत प्रत्यारोपण कृत्रिम दांत होते हैं जिन्हें खोए हुए या क्षतिग्रस्त दांतों के स्थान पर जबड़े की हड्डी में प्रत्यारोपित किया जाता है.

टाइटेनियम एक आम तौर पर इस्तेमाल किया सामग्री है क्योंकि यह जैव संगत है, जिसका अर्थ है कि यह जीवित ऊतक के लिए हानिकारक नहीं है, और यह एक एलर्जी प्रतिक्रिया का कारण बनने का एक कम जोखिम है।टाइटेनियम मजबूत है, हल्के और संक्षारण प्रतिरोधी है, जिससे यह मुंह में उपयोग के लिए एक आदर्श सामग्री है।

दंत प्रत्यारोपण के प्रदर्शन में सुधार के लिए, एक पतली टाइटेनियम परत को प्रत्यारोपण की सतह पर स्पटरिंग प्रक्रिया का उपयोग करके जमा किया जा सकता है।यह कोटिंग प्रत्यारोपण की जैव संगतता में सुधार कर सकती है, जिससे आसपास के हड्डी के ऊतक में एकीकृत होने की संभावना बढ़ जाती है और प्रत्यारोपण विफलता का जोखिम कम होता है।

एक मामले में, आयोवा विश्वविद्यालय के शोधकर्ताओं ने एक टाइटेनियम स्पटरिंग प्रक्रिया का उपयोग एक उपन्यास दंत प्रत्यारोपण बनाने के लिए किया जो दंत प्रत्यारोपण की दीर्घकालिक सफलता में सुधार कर सकता है।शोधकर्ताओं ने एक अलग सामग्री से बने एक दंत प्रत्यारोपण की सतह पर टाइटेनियम की एक परत जमा करने के लिए एक स्पटरिंग प्रक्रिया का इस्तेमाल कियाटाइटेनियम कोटिंग ने इम्प्लांट की आसपास के हड्डी के ऊतक के साथ एकीकरण की क्षमता में सुधार किया और इम्प्लांट विफलता के जोखिम को कम किया।

यह केवल एक उदाहरण है कि चिकित्सा उपकरणों के प्रदर्शन में सुधार और रोगी परिणामों में सुधार के लिए चिकित्सा अनुप्रयोगों में टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग कैसे किया जा सकता है।

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