वाष्पीकरण कोटिंग के लिए टाइटेनियम छर्रों, कण 4N शुद्धता Dia3x3mm 3x6mm

उत्पत्ति के प्लेस	चीन
ब्रांड नाम	CSTI
प्रमाणन	ISO9001
मॉडल संख्या	20220830
न्यूनतम आदेश मात्रा	1 किलोग्राम
मूल्य	$35.00 - $125.00/ kg
पैकेजिंग विवरण	100g/बैग, 500g/बैग, 1kg/बैग, 25kgs/बैग/ड्रम, 50kgs/बैग/ड्रम
प्रसव के समय	15 ~ 20 कार्य दिवस
भुगतान शर्तें	टी/टी, एल/सी
आपूर्ति की क्षमता	प्रति माह 100 टन

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उत्पाद विवरण

सामग्री	टाइटेनियम और मिश्र धातु	आकार	छर्रों / कणों / दानों
आकार	Dia3x3,6x6,3x6,6x8,8x8,10x10 आदि	शुद्धता	99.95-99.99%
आवेदन	अर्धचालक बयान, सीवीडी, पीवीडी, सजावटी कोटिंग्स, प्रदर्शित करता है	मुख्य शब्द	टाइटेनियम गोली, टाइटेनियम कण, टाइटेनियम लक्ष्य
प्रमुखता देना	4N 6x6mm टाइटेनियम कण , वाष्पीकरण कोटिंग टाइटेनियम लक्ष्य , टाइटेनियम छर्रों लक्ष्य 4N

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उत्पाद विवरण

सामग्रीः शुद्ध टाइटेनियम
शुद्धताः 99.95-99.99%
व्यासः 3-10 मिमी
धातु की पतली फिल्मों में उच्च परावर्तनशीलता, कट-ऑफ बैंड चौड़ाई, अच्छी तटस्थता, कम ध्रुवीकरण प्रभाव और अन्य फायदे हैं।वे विशेष अनुप्रयोगों के लिए फिल्म प्रणालियों के डिजाइन में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं. हमारे टाइटेनियम पेलेट्स, वाष्पीकरण कोटिंग सामग्री के लिए कणों का उपयोग सबसे सख्त गुणवत्ता वाली फिल्म प्राप्त करने के लिए किया जा सकता है। कोटिंग प्रसंस्करण उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है; सजावट और मोल्ड क्षेत्र आदि।.
आयामी स्थिरता,उन्नत यांत्रिक गुण,एक समान अनाज आकार वितरण,छोटे अनाज आकार

पीवीडी पतली फिल्म कोटिंग टाइटेनियम गोली Tiवाष्पीकरण सामग्री

1उच्च शुद्धता वाली वाष्पीकरण सामग्री उच्च गुणवत्ता वाली जमा फिल्म सुनिश्चित करने के लिए पीवीडी/सीवीडी जमा प्रक्रियाओं में एक बड़ी भूमिका निभाती है।
2टाई का पिघलने का बिंदु 1,660°C है, और इसका घनत्व 4.5 g/cc है, और वाष्प दबाव 10-4 Torr 1,453°C पर है। यह एक मजबूत सामग्री है जिसे गर्मी लागू होने पर आसानी से निर्मित किया जाता है।इसका हल्का वजन और उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध इसे महासागर के जहाजों के लिए आदर्श बनाता है, विमान इंजन, और डिजाइनर गहने।

आवेदन और लाभ

टाइटेनियम गोली, कण 4N शुद्धता Dia3x3mm 3x6mm uसेड मेंवाष्पीकरण कोटिंग,uसेड मेंअर्धचालक जमा, रासायनिक वाष्प जमा (सीवीडी) और भौतिक वाष्प जमा (पीवीडी) सहित जमा प्रक्रियाएं,परिधान संरक्षण, सजावटी कोटिंग और डिस्प्ले सहित ऑप्टिक्स के लिए इस्तेमाल किया जाता है.

टैग:

चांदी	3N5~5N	तांबा	3N5~6N	निकेल	2N5~5N	बिस्मिथ	4N~5N
एल्युमिनियम	4N~6N	डिस्प्रोसियम	3N~4N	ऑस्मियम	3एन5	समारियम	3एन5
स्वर्ण	4N~5N	एर्बियम	3N~4N	सीसा	3एन	इंडियम	4N~5N
मैग्नीशियम	3N5~4N	यूरोपियम	3N~4N	पल्लाडियम	3एन5	इरडियम	3एन5
वेनेडियम	3N5~4N	लोहा	3N~4N	प्लैटिनम	3N5~4N	लैंथेनम	3एन5
बिस्मिथ	4N~5N	गैलियम	4N~5N	रेनियम	3एन5	ल्यूटेशियम	3N~4N
टंगस्टन	3N5~5N	गैडोलिनियम	3N~4N	रोडियम	3एन5	मैंगनीज	3N5~4N
कैल्शियम	3एन	जर्मनियम	3N~5N	रुथेनियम	3एन5	मोलिबेडेनम	3N5~4N
सीरियम	3n~4N	हेल्फ़नियम	3N~4N	एंटीमोन	3एन5	टाइटेनियम	2N5~5N
कोबाल्ट	3N~4N	निओबियम	3N5~4N5	होल्मियम	3N5~4N	इटरबियम	3एन5
क्रोमियम	2N5~3N5	नियोडिमियम	2N5~3N5	सेलेनियम	3N5~4N	टेलुरियम	4N~5N

वाष्पीकरण कोटिंग के लिए टाइटेनियम छर्रों, कण 4N शुद्धता Dia3x3mm 3x6mm

4N 6x6mm टाइटेनियम कण

वाष्पीकरण कोटिंग टाइटेनियम लक्ष्य

टाइटेनियम छर्रों लक्ष्य 4N

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