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शक्ति इलेक्ट्रॉनिक टाइटेनियम एनोड पॉलिश सतह मिश्र धातु स्टील फोर्जिंग
| Strength: | High |
|---|---|
| Uns: | R50400, R56400, R52400 |
| Width: | 5-100mm |
एएसटीएम बी 338 मानक शुद्ध टाइटेनियम GR1 पॉलिश सतह उपचार इलेक्ट्रोड 70% ~ 90% छिद्रता के साथ
| Length: | <=2000mm |
|---|---|
| Standard: | ASTM B338 |
| Porosity: | 70%~90% |
एएसटीएम बी 338 स्वीकृत ब्लैक इलेक्ट्रॉनिक टाइटेनियम एनोड / सटीक वेल्डिंग के लिए कस्टम टाइटेनियम पार्ट्स
| Color: | Black |
|---|---|
| Surface Treatment: | Polished |
| Powder Or Not: | Not Powder |
काला सतह संरक्षण के लिए टाइटेनियम प्लेट कैथोडिक इलेक्ट्रोडेपोजिशन पेंट
| Porosity: | 70%~90% |
|---|---|
| Powder Or Not: | Not Powder |
| Type: | Round, Rectangular, Disc Shape And So On |
काली टाइटेनियम गोल इलेक्ट्रोड हल्के और मजबूत 70%-90% छिद्रता के साथ
| Color: | Black |
|---|---|
| Length: | <=2000mm |
| Type: | Round, Rectangular, Disc Shape And So On |
लम्बाई पॉलिश टाइटेनियम फोर्जिंग फोर्जिंग प्रौद्योगिकी व्यास φ100-1300mm 5-100mm
| Surface Treatment: | Polished |
|---|---|
| Inner Diameter: | 100-900mm |
| Width: | 5-100mm |
अनुकूलित सब्सट्रेट पॉलिश और एनोडाइज्ड के साथ इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |
स्पुटरिंग कोटिंग्स के लिए अनुकूलित धातु लक्ष्य एकल या एकाधिक कॉन्फ़िगरेशन Ra 0.8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
99.99% शुद्धता स्पटरिंग धातु लक्ष्य पॉलिश सतह क्रिस्टल संरचना के साथ
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
अनुकूलित एकल/बहु शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्य पॉलिश सतह के साथ
| Substrate Compatibility: | Customized |
|---|---|
| Purity: | 99.99% |
| Density: | Customized |